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12Sep

學術活動
「2018 原子層沉積技術發展與產業應用研討會」將於 9 月 20 日在新竹儀科中心舉行,歡迎踴躍報名!

2018 原子層沉積技術發展與產業應用研討會
 原子層沉積技術(Atomic Layer Deposition,ALD)由於具有極佳的薄膜成長厚度控制性、階梯覆蓋性與大面積均勻性,已成為半導體產業的一項主流技術。
本研討會邀請國外前驅物材料專家以及國內知名學者,講演原子層沉積技術與產業相關應用,讓您掌握未來原子層沉積技術的發展藍圖!
│研討會地點:新竹市科學園區研發六路20 號 ( 儀器科技研究中心 )
│主辦單位:國家實驗研究院儀器科技研究中心
│報名人數:80人,活動全程免費,名額有限,報名截止日到9/17,敬請提早報名~
│報名網址:https://goo.gl/WeCsyJ ( 看不到底下議程,請至報名網址觀看 )